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    如何提升濺射鉬靶材的利用率

    [ 信息發布:本站 | 發布時間:2023-10-23 | 瀏覽:15455 ]

    濺射鉬靶材因其本身優點,已經在電子行業、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的使用。隨著現代科技微型化、集成化、數字化、智能化的快速發展,鉬靶材的用量將持續增長,對其質量要求也必將越來越高。所以就需要想辦法提高鉬靶材利用率,現在小編為大家介紹幾種提高濺射鉬靶材的利用率的方法。

    01反面加電磁線圈

    想提高濺射鉬靶材的利用率,可以在平面的磁控濺射鉬靶材的反面加上一圈電磁線圈,經過增加電磁線圈的電流來增大鉬靶材外表的磁場,以提高鉬靶材的利用率。


    02選用管狀旋轉靶材

    與平面靶材相比,選用管狀旋轉靶材結構就凸顯出它的實質性優勢,一般平面靶材的利用率僅為30%~50%,而管狀旋轉靶材的利用率則可以達到80%之上。不僅如此,使用旋轉空心圓管磁控濺射靶時,由于靶材可繞固定的條狀磁鐵組件一直旋轉,所以在它的外表不會產生重沉積現象,所以一般旋轉靶的壽命要比平面靶材高5倍不止。

    03更換新式濺射設備

    提高靶材利用率的關鍵在于完成濺射設備的更新換代。鉬濺射靶材在濺射進程中靶材原子被氫離子撞擊出來后,約六分之一的濺射原子會淀積到真空室內壁或支架上,增加清潔真空設備的費用及停機時間。所以更換新式濺射設備也有助于提高濺射鉬靶材的利用率。


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